第90章 光刻厂？(第2/2 页)
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也干？”
陈小川没有直接回答，而是问出一个问题
“各位，我想问一下，光刻机的技术难点在哪里呢？”
一直对于光刻机这一板块有深刻研究的李院士沉声说
“在这一点上，我想我还是有发言权的。
光刻机研发最大的难点是光学系统，其实就是光源、还津和反光锋。光刻机的光学器件难点，并不在镜片生产上，而在于校准、调试和成像质量补偿上。
先说最高端的极紫外光刻机EUV。极紫外光刻机更困难的一个原因是原有的成熟镜片完全不能使用，因为所有的材料都会吸收极紫外光。
极紫外光不能再靠透镜来聚光，只能用反射镜。要造极紫外光刻机，所有的光路和材料都必须重新设计。
普通的镜子即使加工再精良，也不能用到极紫外光的反射上。
目前使用的反光镜必须在表面上镀上均匀的钼硅多层高反射率薄膜，这个反射镜的制作和使用流程非常严格。首先镀膜得均匀，不能含有杂质，而且必须在真空状态下使用。
其次加工好以后，其表面完整度必须非常高，得达到纳米级。严格保证聚光效果，稍有不慎就会导致成像走形。”
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